多介質(zhì)適配：常溫高jing度系列設(shè)備技術(shù)解析

2026 年 5 月 13 日 8

高jing密制造場(chǎng)景中，不同制程對(duì)循環(huán)介質(zhì)的電導(dǎo)率、腐蝕性、潔凈度等要求存在差異，該系列設(shè)備支持氟化液、乙二醇水溶液、純凈水、DI 水等多種介質(zhì)，可根據(jù)工藝需求靈活選擇，適配不同制程的溫控需求。

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半導(dǎo)體光刻配套：常溫高精度 CHILLER 應(yīng)用

2026 年 5 月 13 日 6

光刻是半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié)，過(guò)程中對(duì)設(shè)備溫度的穩(wěn)定性、均勻性有著明確要求，溫度波動(dòng)會(huì)直接影響光刻膠的曝光效果，進(jìn)而影響芯片關(guān)鍵尺寸，常溫高精度系列 CHILLER 設(shè)備以 ±0.005℃的控溫精度，適配光刻工藝的溫控需求。

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鋰電生產(chǎn)超純水冷卻：CHILLER 制冷循環(huán)器說(shuō)明

2026 年 5 月 12 日 7

鋰電生產(chǎn)過(guò)程中，ji片涂布、電解液存儲(chǔ)、化成測(cè)試等環(huán)節(jié)需穩(wěn)定冷卻，超純水冷卻可避免雜質(zhì)污染與電氣風(fēng)險(xiǎn)。

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光伏電池片清洗：超純水溫控系列應(yīng)用

2026 年 5 月 12 日 8

光伏電池片清洗是提升光電轉(zhuǎn)換效率的重要工序，需去除表面油污、顆粒及金屬雜質(zhì)，超純水的溫度與潔凈度直接影響清洗效果。

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±0.1℃控溫jing度：超純水溫控系列技術(shù)特點(diǎn)

2026 年 5 月 11 日 10

控溫jing度是超純水溫控系列 CHILLER 制冷循環(huán)器的核心技術(shù)指標(biāo)，該系列設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)控溫jing度為 ±0.1℃，可定制 ±0.01℃高jing度配置，通過(guò)多項(xiàng)技術(shù)優(yōu)化實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定控溫，適配半導(dǎo)體等行業(yè)對(duì)溫度穩(wěn)定性的嚴(yán)苛要求。

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沖洗型 / 循環(huán)型：超純水溫控系列兩種模式解析

2026 年 5 月 11 日 13

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超低溫工業(yè)冷卻：FLTZ -80~+50℃制冷循環(huán)器應(yīng)用

2026 年 5 月 9 日 17

工業(yè)gao端制造與jing密測(cè)試場(chǎng)景，如半導(dǎo)體超低溫工藝、航空電子部件冷卻、特種材料低溫加工、jing密儀器超低溫冷卻等，常需 - 80℃至 + 50℃的超低溫冷卻環(huán)境，對(duì)設(shè)備的超低溫輸出穩(wěn)定性與控溫jing度要求ji高。FLTZ -80~+50℃制冷循環(huán)器，依托復(fù)疊制冷技術(shù)，可穩(wěn)定輸出...

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中低溫工業(yè)工藝：FLTZ -40~+90℃設(shè)備解析

2026 年 5 月 9 日 16

工業(yè)中低溫工藝（-40℃至 + 90℃），如半導(dǎo)體芯片測(cè)試、電子元件溫度循環(huán)實(shí)驗(yàn)、新材料低溫性能研究、化工中低溫反應(yīng)等，對(duì)溫度穩(wěn)定性、控溫jing度與設(shè)備可靠性要求嚴(yán)格。FLTZ -40~+90℃制冷循環(huán)器，專為工業(yè)中低溫場(chǎng)景設(shè)計(jì)，可提供jing準(zhǔn)、穩(wěn)定的中低溫環(huán)境，適配各類工...

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